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簡要描述：華測(cè)-高溫快速爐測(cè)試儀器-高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2023-08-29訪 問 量：1780產(chǎn)品分類
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| 品牌 | 北京華測(cè) | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
產(chǎn)品介紹
華測(cè)-高溫快速爐可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵眨叱黾兌葰怏w中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
華測(cè)-高溫快速爐提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，在試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。
同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)an全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)溫度控制cao作！
設(shè)備優(yōu)勢(shì)
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
溫度控制
過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度（遠(yuǎn)比普通加溫方式）。此外，冷卻速度和保持在溫度下可提供。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），cao作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
反射爐溫度控制裝置
高速升溫時(shí)，配套的快速反應(yīng)的紅外線反射爐控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高緊湊設(shè)計(jì)，響應(yīng)速度愉。
為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度。
l 據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)。
l 自適應(yīng)熱電偶包括JS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型
l 大可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序。
l 30A、60A、120A內(nèi)置了SCR電路，所以范圍很廣。
l 250mmW*80mmD*57mmH小巧尺寸
設(shè)備配置
公司簡介
我們北京華測(cè)公司從儀器生產(chǎn)、an全防護(hù)、數(shù)據(jù)采集、通訊網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)到云管理系統(tǒng)為用戶提供有競(jìng)爭(zhēng)力的系統(tǒng)級(jí)方案與服務(wù)，幫助用戶在新材料研發(fā)與檢測(cè)獲得成功。
華測(cè)-高溫快速爐測(cè)試儀器
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